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半導體

發(fā)表時間:2023-06-01      點擊次數(shù):662

  等離子清洗設(shè)備可廣泛應(yīng)用于半導體制造過程中。半導體制造涉及多個步驟,其中之一是可以清潔半導體設(shè)備表面,去除沉積物、有機物、灰塵等污染物,確保設(shè)備的質(zhì)量和性能。等離子清洗設(shè)備可以利用等離子體產(chǎn)生的活性離子和化學反應(yīng),可以在非常小的尺度上進行清洗。

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